服務熱線：18916157635產品到哪里，服務到哪里 !
產品展示products
產品導航
關于我們about us
那諾中國有限公司專注于為大中華區域（包括中國大陸、香港、澳門和中國臺灣）的高校、科研院所、企業研發與生產等企業機構提供高性能、高性價比、定制化的薄膜工藝加工設備及科學分析檢測儀器。那諾中國提供美國那諾-馬斯特薄膜工藝加工設備（包含磁控濺射、熱蒸鍍、電子束、PECVD、ALD、PA-MOCVD、RIE、離子束、DRIE、晶圓兆聲清洗機等）。那諾中國提供英國KORE基于飛行時間的質譜儀，包含飛行時間二次離子質譜儀（TOF-SIMS）、質子轉移反應（PTR）質譜儀、電子轟擊電離（EI）質譜儀等。
新聞中心news center
ICP等離子刻蝕機是一種廣泛應用于半導體制造、微電子器件和納米技術領域的精密加工設備。它利用電磁感應原理產生高能等離子體，能夠在多種材料（如硅、氮化鎵、金屬等）上進行高精度的刻蝕。ICP等離子刻蝕機的主要組成部分：1.真空腔：提供低壓環境，以便更好地生成等離子體和提高刻蝕效率。2.電感線圈：用于產生高頻電磁場，激發氣體形成等離子體。通常安裝在真空腔頂部。3.基板臺：用于放置待刻蝕材料?；迮_可以加熱或冷卻，以調節樣品的溫度，從而影響刻蝕效果。4.氣體輸送系統：包括氣體瓶、流量...
2026-01-28在半導體制造過程中，晶圓會經歷多種工藝步驟，如氧化、光刻、刻蝕等。這些工藝過程中會產生各種污染物，包括化學藥劑殘留、顆粒物、金屬離子等。如果不及時清洗，將會影響后續工藝的進行，導致產品缺陷、良率下降。因此，晶圓清洗是確保半導體產品質量的關鍵環節。晶圓清洗的基本要求：1.去污能力：清洗設備必須能夠有效去除晶圓表面的各種污染物。2.無損傷：在清洗過程中，不能對晶圓的表面造成任何損傷。3.均勻性：清洗效果應在整個晶圓表面保持一致，避免出現局部污染。4.環保性：清洗過程應盡量減少對環...
2025-12-26全自動磁控濺射系統是一種高度集成的薄膜沉積設備，廣泛應用于材料科學、電子工程、光學涂層、半導體制造以及表面處理等領域。磁控濺射技術作為一種常用的物理氣相沉積（PVD）方法，能夠精確控制薄膜的厚度、成分以及表面質量。則通過自動化控制、精密傳輸、實時監測等技術手段，實現了高效、穩定且高精度的薄膜沉積過程。全自動磁控濺射系統的主要組成部分：1.真空室：真空室是磁控濺射系統的核心部分，其作用是為濺射過程提供低壓環境。通過泵系統將真空室抽真空，保證濺射過程中氣體的稀薄度，從而實現高效的...
2025-11-26全自動原子層沉積系統是一種利用自限性化學反應，精確控制材料厚度并沉積超薄薄膜的技術。ALD技術以其在材料科學、微電子學和納米技術中的獨特優勢，特別是在沉積均勻性、材料一致性、以及在復雜三維結構上的沉積能力，廣泛應用于半導體、光電器件、太陽能電池、儲能器件等領域。全自動原子層沉積系統的部分組成：1.反應腔體：反應腔體是ALD沉積過程的核心，通常采用不銹鋼或鋁合金材料制造，以承受高溫高壓，并保證反應過程中的氣體流動和反應的充分進行。腔體內部設計有適配不同氣體引入的接口。2.氣體輸...
2025-10-29磁控濺射系統是一種廣泛應用于薄膜沉積的技術，特別是在半導體、光電、涂層及材料研究領域中。它的基本原理是利用高能粒子撞擊靶材，將靶材的原子或分子濺射出來，并在基板上形成薄膜。磁控濺射技術的獨特之處在于其利用磁場來增強等離子體密度，從而提高濺射效率。磁控濺射系統的具體工作過程：1.等離子體的產生：先通過高壓電源為氣體提供足夠的能量，使氣體分子被電離，形成等離子體。常用的氣體是氬氣（Ar）或氬氮混合氣。2.離子加速與濺射：電場加速等離子體中的離子，并將其導向靶材表面。當這些高能離子...
2025-09-27磁控濺射是一種廣泛應用于薄膜材料沉積的物理氣相沉積（PVD）技術，廣泛應用于半導體、光學、太陽能、電池、顯示器、硬盤、光學鏡頭等領域的生產和研發。磁控濺射系統通過將靶材中的原子或分子撞擊到基材表面，形成薄膜材料，具有高質量的薄膜沉積效果和較高的沉積速率。磁控濺射技術的核心原理是通過電磁場產生的約束作用，使離子化氣體（通常為氬氣）在靶材表面形成高能電子束，從而使靶材表面原子激發出來，并沉積到基材上，形成均勻的薄膜。磁控濺射系統的主要組成部分：1.真空腔體：真空腔體是核心部分，通...
2025-08-27推薦產品recommend
友情鏈接/links
掃碼
在線咨詢
返回頂部